금속 판 누설을 위한 화학 에칭 철망사 스테인리스 여과기 원판

0.5MM 간격 스테인리스 금속 판 누설에 사용되는 식각된 여과기 원판

소개

에칭 금속 여과기의 물자: 고품질 스테인리스, 금속, 합금 장 또는 테이프의 0.5mm의 일반적인 간격.

생산 과정: 화학 에칭.

기술 표준: 기계적으로 일어난 작은 철사 직경 0.02mm, 식각된 지역 500mm*600mm의 물자 간격 0.02mm-0.5mm.

금속 에칭 메시 기술 이점

1개는, 이 기술 전통적인 금속 가공 방법을 개량합니다.

2개는 자료를 통해, 이 기술, 도표, 디자인 및 복잡한 원통 모양 모양, 등 오목하고 볼록한 금속 제품을 가공하기 위하여 가공될 수 있습니다.

3개는 구멍과 각종 모양을 만들기를 위해, 기술을 식각해서 사용될 수 있습니다.

금속 에칭 메시 기술은 직접 회로, 형광성 전시, 미소 전극에서 널리 이용됩니다 등 거르는 정밀도.

금속 에칭 메시 사용법:

1. Machinable 금속 유형: 각종 금속, 합금 및 스테인리스 판 및 지구;

2. 장 간격 범위: 0.5mm 이하 장을 위한 2mm 이하, 특히;

3의 기업의 사용:

(1) 석유, 화학물질, 음식 및 약제 신청을 위한 정밀도 여과기, 여과판, 필터 카트리지 및 여과기;

(2) 전자제품 산업을 위한 금속 누설 판, 표지판, 편평한 핀, 지도 구조 및 금속 기질;

(3) 정밀도 광학과 기계적인 편평한 부속, 봄 부속;

(4) 마찰 판과 다른 concavo 볼록한 평탄 부분;

(5) 복잡한 금속 장식적인 판 및 절묘한 수공예를 가진 금속 표시 그리고 본.

테이블 크기